В ближайшие годы у России появится собственный литограф, который в перспективе можно будет приспособить под 28-нм техпроцесс. Об этом сообщили в Национальном центре физики и математики в городе Саров.
Перспективный литограф
В 2026 году российские ученые планируют представить альфа-машину — первый демонстрационный образец литографа, на котором проверят и отработают технологию. В течение 5 лет специалисты собираются создать версию оборудования для предприятий.
При этом подчеркивается, что заявленный техпроцесс 28 нм будет освоен не сразу:
«Конечно, это не означает, что через два года там будет разрешение в 28 нанометров. Оно будет улучшаться постепенно. И не за счет того, что мы будем внедрять какие-то новые технологии — технологии мы продемонстрируем сразу, а за счет того, что будет оттачиваться работа. <…> Я думаю, что будет прекрасно, если мы с этими новыми технологиями через два года продемонстрируем 90 нанометров, которые сейчас у нас есть, но уже в слаженной работе всех систем», — рассказал ТАСС научный руководитель Национального центра физики и математики, академик РАН Александр Сергеев.
И ничего необычного и удивительного здесь нет: и 190, и 130, и 90, и даже 65-нм техпроцессы производятся на одном и том же фотолитографе. Практика показала, что по мере наработки технологий можно добиваться лучших результатов на том же оборудовании.
И установленные сроки достижения поставленной цели совсем невелики. Через 2 года — рабочий литограф, и еще около 3 лет понадобится на совершенствование технологий получения структур с необходимым разрешением. А поскольку речь идет о промышленной технологии, вероятнее всего, будут работать еще и над сокращением брака.
Будущее отечественной литографии
Ранее в Минпромторге сообщали, что производство российских литографов стартует в 2024 году.
«Производство российского литографа для топологии 350 нанометров начнется уже в следующем году. Оборудование для выпуска чипов с топологией 130 нанометров — в 2026 году», — говорил в прошлом году в интервью РИА Новости замглавы Минпромторга РФ Василий Шпак.
Шпак также отметил, что технологии 45 нм и меньше нужны преимущественно для производства процессоров и памяти, а это — около 10-15% рынка. По его словам, доля в 60% приходится как раз на диапазон топологических размеров 350-65 нанометров.
В то же время переход к более тонкому процессу улучшает характеристики устройств и приборов, так что перспективный литограф из Сарова придется как нельзя кстати при создании быстрых и производительных девайсов.
Читайте также:
Материал создан при поддержке проекта SFERA
Чтобы не потерять нас, подпишитесь на telegram-канал, который мы ведём для проекта SFERA. Экстренные новости будут в закреплённых сообщениях.
