Ученые, работающие в Институте прикладной физики Российской академии наук, ведут работы над первой отечественной установкой литографии, которая впоследствии будет использоваться для производства современных 7-нанометровых чипов.
На текущий момент создан демонстрационный образец, который ученые назвали «прототип прототипа». Все дело в том, что на этой установке пока получены только отдельные изображения на подложках с разрешением в 7нм.
Современные реалии и перспектива будущего
На текущий момент в Российской Федерации в промышленных масштабах могут выпускаться только чипы с микроструктурой более 65 нм (в основном 90 нм и выше). И для этих целей используется не самое новое иностранное оборудование.
Поэтому вполне логично, что ученые ведут активную работу над более совершенным оборудованием. Но, несмотря на первые явные успехи, говорить о существенном прорыве рановато.
Нужно пройти как минимум три важных этапа. И на первом этапе к 2024 году должна быть готова так называемая «альфа-машина», которая позволит отработать полный цикл операций. Во время этого этапа будет сделан упор на отработку работы всех систем, а не на скорость выпуска продукции.
Как только все будет «обкатано», к 2026 году должна быть собрана так называемая «бета-машина», в которой будут учтены все нюансы,
повысится разрешение и производительность системы, а также многие операции будут отданы на откуп роботизированным линиям.
Уже на этом этапе установка более чем подойдет для применения на производстве, что, естественно, и будет реализовано в самые сжатые сроки.
Ну а на третьем этапе до 2028 года отечественный литограф получит более мощный источник излучения, а также доработанные системы позиционирования и подачи, что даст прирост в скорости работы и повысит ее точность.
Даже невзирая на то, что само оборудование будет готово только через несколько лет, уже сейчас можно говорить о качественном скачке в развитии в данной области.
Да, конкуренты тоже не будут стоять на месте, но если мы посмотрим на признанного технологического лидера в данной отрасли ASML, то он до сих пор использует систему EUV-литографии вот уже на протяжении 20 лет.
И следует отметить, что их ультрафиолетовый источник изначально заточен под высокую производительность и большие объемы, в результате чего само по себе оборудование сильно дорогое и громоздкое.
Разрабатываемый российский источник излучения отличается своей компактностью и «чистотой» работы, а это непосредственно влияет на размеры, стоимость и сложность оборудования.
Так что при равной мощности установки ASML российская разработка будет как минимум в два раза эффективнее.
Ну что ж, не будем смотреть, насколько будет превосходить российская установка западные аналоги. Будем просто ждать и надеяться, что она появится у России без серьезных задержек, а лучше с опережением графика.
Если вы считаете так же, то ставим лайк, и пишем свое мнение в комментариях. Спасибо за внимание!
