Японская компания Dai Nippon Printing Co. (DNP) разработала процесс изготовления фотомасок, подходящих для использования в 3-нанометровом (3 нм) литографическом процессе, который использует экстремальную ультрафиолетовую (EUV) литографию. В 2016 году DNP стала первым в мире производителем масок, представив многолучевой инструмент для записи масок (MBMW), который сокращает время литографии даже при сложных формах изображения. Компания улучшила производственный процесс фотомасок, используя характеристики оборудования, оптимизировала технологию коррекции данных и условия обработки для соответствия сложной структуре фотомаски для EUV-литографии. DNP планирует начать использование нового MBMW во второй половине 2024 года. Компания также планирует сотрудничество с Межвузовским центром микроэлектроники (imec) для совместной разработки EUV-фотомасок для следующего поколения EUV-экспонирования. В будущем DNP будет поставлять фотомаски, подходящие для EUV-литографии с разрешением 3 нм, производителям полупроводников по всему миру и стремится к разработке более совершенных фотомасок для процессов еще более мелкой толщины.
