В нижегородском Институте прикладной физики РАН создают первый российский литограф. Если проект завершится успехом, продвинутое оборудование поможет в производстве микросхем по нормам 7-нм техпроцесса.
7 нанометров не за горами
Если вы читаете наш блог, вы наверняка слышали о «Микроне». Компания вполне справедливо называет себя чипмейкером №1 — пока что только это предприятие может выпускать относительно современные чипы: инженерные образцы по топологии 65 нм и массовое производство по нормам 90 нм. Конечно, по мировым меркам это очень устаревшие микросхемы. Для сравнения: тайваньский гигант TSMC, крупнейший контрактный производитель чипов еще в 2019 году начал осваивать производство 2 нм чипов.
Надеемся, что в перспективе ближайших нескольких лет этот огромный разрыв между российскими и зарубежными чипмейкерами будет преодолен. Тем более, что теперь это вполне реально — в Институте прикладной физики РАН (Нижний Новгород) создают литограф для производства чипов по нормам 7-нанометрового техпроцесса.
Как будет идти разработка
Сегодня у специалистов Института уже готов первый демо-образец литографа. Однако ждать придется довольно долго. Первый промышленный образец планируют выпустить в 2026-2028 гг. Разработка установки будет идти в три этапа:
- В 2024 году свет увидит «альфа-машина» — установка с возможностью проведения полного цикла операций.
- В 2026 году разработают «бета-машину» — она будет мощнее, чем предшественница: с более сложными системами, высоким разрешением и производительностью, а некоторые операции будут и вовсе роботизированы. Бета-машину уже смогут использовать на реальном производстве чипов.
- В 2026-2028 гг. литограф оснастят источником излучения более высокой мощности, усовершенствованными системами позиционирования и подачи.
Представители отрасли уже оценили разработку. Николай Чхало, заместитель директора Института физики микроструктур РАН по научно-технологическому развитию, считает, что разработка нижегородских ученых по определенным параметрам превосходит продукцию ASML. В частности, источник излучения российской системы чище в работе и компактнее. При одинаковой мощности источника излучения литограф, разработанный в нижегородском институте, будет в 1.5-2 раза эффективнее установки нидерландского производителя.
Как вы считаете, получится ли у отечественных производителей довести до конца разработку отечественного литографа? Ставьте лайк, подписывайтесь на ISPsystem в Дзене и делитесь своим мнением в комментариях!
