Первый российский литограф с разрешением 350 нм создан Зеленоградским нанотехнологическим центром и уже передан заказчику. Это событие, о котором стало известно в сентябре 2025 года, знаменует важный шаг к технологической независимости российской микроэлектроники. Это долгожданное событие стало стартом российской литографии.
Разработка установки велась совместно с белорусским предприятием «Планар». Оборудование уже успешно прошло приемку государственной комиссии.
Технические характеристики и преимущества
Новая установка предназначена для проекционного переноса изображения с фотошаблона на полупроводниковую пластину при изготовлении сверхбольших интегральных схем (СБИС). Она обладает рядом улучшенных характеристик по сравнению с предыдущими доступными в России аналогами.
- Разрешение: 350 нанометров (нм), рабочая длина волны: 365 нм, что соответствует стандарту i-line литографии.
- Ключевое новшество: в качестве источника излучения впервые в мировой практике для таких задач использован твердотельный лазер.
- Твердотельный лазер: пришёл на смену традиционным ртутным лампам, что обеспечило большую мощность, энергоэффективность, долговечность и узкий спектр излучения
- Производительность: увеличена площадь рабочего поля до 22×22 мм (ранее было 3,2×3,2 мм), а максимальный диаметр обрабатываемых пластин расширен до 200 мм
- Вес литографа: 3,5 тонны
- Гарантированный срок службы: не менее 5 лет.
Практическое применение
- Силовая и автомобильная электроника: производство элементной базы для энергетики, тяжелого машиностроения, приборостроения и авиации.
- Промышленные системы управления: технологические нормы 350 нм достаточны для создания надежных микросхем для промышленных систем.
- Оборонная промышленность: в военной сфере, где требования к минимальным размерам чипов не всегда являются критичными, такая технология также найдет применение.
Главная ценность разработки — в обеспечении технологической независимости.
Запуск литографа с разрешением 350 нм — это только первый шаг в дорожной карте развития отечественной литографии.
- Литограф на 130 нм: В ЗНТЦ уже ведутся работы над следующей моделью с разрешением 130 нм, завершение которой намечено на 2026 год . Эта установка проектируется с возможностью работы на длинах волн 193 и 248 нм, что открывает путь к процессам 90-65 нм.
- Перспективные разработки: Российские научные институты, такие как ИФМ РАН и МИЭТ, ведут исследования в области рентгеновской и безмасочной литографии с нормами 28-16 нм и даже ниже, предлагая альтернативные, потенциально более экономичные концепции по сравнению с западными EUV-системами.
Параллельно развиваются специализированные решения, как, например, литограф для 3D-микроструктур от МФТИ, предназначенный для биоинженерии и фотоники.
Заключение
Первый отечественный литограф — это значимое достижение, которое позволит обеспечить базовые потребности стратегических отраслей России в микроэлектронике. Несмотря на отставание от передовых мировых стандартов, его создание демонстрирует наличие в стране необходимых компетенций и служит фундаментом для более амбициозных проектов в будущем.
Публикация статьи состоялась 25 сентября 2025 года.
Коллеги, мы будем рады, если вы подпишетесь на канал Российского союза инженеров!
Читайте также наши материалы:
#Литография #Микроэлектроника #Импортозамещение #ТехнологическаяНезависимость #Нанотехнологии #СБИС #РоссийскиеРазработки #Зеленоград #Инновации