Российская EUV оптика. Вторые после Zeiss?
Поединок между российским ИФМ и японской Rigaku. Оптическая система — один из ключевых модулей фотолитографа экстремального ультрафиолета (EUV). Примечательно, что такие системы являются катоптрическими, то есть состоящими из зеркал. Ведь свет экстремального ультрафиолета (длина волны 13,5 нм) невозможно сфокусировать на полупроводниковой пластине посредством диоптрического объектива (линзы) или катадиоптрического (линзы + зеркала) из-за того, что столь короткие волны полностью поглощаются стеклом...
