В России разработано множество интересных технологий в области фотолитографии, в том числе уже в текущем веке. Взять, к примеру, эксимерные (газовые) лазеры, на которых построены фотолитографы глубокого ультрафиолета. Именно эти устройства генерируют свет с длиной волны 248 нм (KrF = фторид криптона) и 193 нм (ArF = фторид аргона). Этот свет, проходя сквозь прорези фотошаблона, формирует соответствующий рисунок интегральной схемы на полупроводниковой пластине, покрытой светочувствительным материалом — фоторезистом. Сейчас в мире всего три компании производят эту сложнейшую технику: американская Cymer (принадлежит голландскому производителю фотолитографов ASML), японская Gigaphoton и китайская RSLaser. Но оказалось, что в России подобная техника также разработана и уже в текущем году ожидается начало её серийного производства. Отличилась группа компаний «Лассард», точнее сказать одна из компаний, входящая в эту группу: «Оптосистемы» (располагается в Троицке, городском округе Москвы, цен