Наноимпринтный литограф — единственный реальный кандидат на то, чтобы разрушить монополию фотолитографов экстремального ультрафиолета (EUV), ключевого оборудования в производстве ультрапередовых чипов. И если по части EUV фотолитографов в мире сложилась самая настоящая монополия в лице нидерландской компании ASML, то в области наноимпринтных мащин для полупроводникового производства первым оказался японский оптичнеский передовик Canon. Тестирование новинки ведущими мировыми производителями микросхем, в том числе американской Intel и южнокорейской Samsung Electronics, сейчас в самом разгаре.
И это при том, что прямых поставок такой техники в адрес Intel и Samsung пока не наблюдалось. Однако в сентябре 2024 года Canon отправила свою первую коммерческую наноимпринтную установку FPA-1200NZ2C в Техасский институт электроники (TIE). Этот институт, специализирующийся на пилотном производстве полупроводников, представляет из себя консорциум полупроводниковых компаний (32 компании). А Intel и Samsung Electronics являются ключевыми участниками консорциума TIE, так что у них есть все возможности как следует ознакомиться с возможностями новой техники.
Наноимпринтные машины Canon уже прошли обкатку на ряде полупроводниковых предприятий в Японии, в частности крупнейшем японском производителе энергонезависимой NAND памяти Kioxia (бывшая Toshiba Memory).
Интерес передовиков мировой микроэлектроники к новой технологии вполне объясним: цена и энергоэффективность таких машин практически на порядок ниже традиционных фотолитографов. И это при том, что они способны производить чипы по ультрапередовым техпроцессам. Упомянутая модель FPA-1200NZ2C работает по 5 нм технологии (реальное разрешение 15 нм и меньше) с перспективой улучшения до 2 нм (японский производитель наноимпринтных форм DNP недавно разработал штамп, способный формировать рисунки микросхем с разрешением 10 нм).
Слои микрочипов в таких машинах формируются методом оттиска рельефной формы (шаблона) на полупроводниковой пластине, покрытой фоторезистом. Никаких тебе мощных источников излучения, вакуума и сложнейших оптических систем, присущих фотолитографам экстремального ультрафиолета.
Полтора деятилетия назад Canon сошёл с дистанции в соревновании с нидерландской ASML за создание EUV фотолитографа. Если в наши дни такие компании, как Intel, Samsung Electronics и Kioxia начнут массовое внедрение наноимпринтной техники в своё производство, то у японцев появится хороший шанс взять реванш.
Какие фотолитографы сейчас работают в России? Читайте статью в премиум-разделе канала «Фотолитограф»: