Итак, первый российский фотолитограф пошёл. Пока не в серию, а в качестве опытного образца. Но как бы там ни было, совместный продукт российского Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) и белорусского завода «Планар» уже весело работает в лаборатории ЗНТЦ, а это самое главное.
Подчеркнём, что Зеленоградский НТЦ выдал на гора первый в истории России (включая времена РСФСР) степпер (шаговый двигатель), причём уже принятый Госкомиссией, всего через 3,5 года после победы в тендере, объявленном Минпромторгом РФ осенью 2021 года. Следует отметить, что ЗНТЦ был в этом конкурсе единственным участником. Что совсем неудивительно, учитывая невероятную сложность данного оборудования.
В мире всего одна страна располагает более, чем одним предприятием, способным производить фотолитографические степперы. Это Япония с её знаменитыми оптическими передовиками, Canon и Nikon. Ну а такие страны, как Нидерланды, Белоруссия и Китай, обладают по одному предприятию-производителю фотолитографов: ASML, «Планар» и SMEE соответственно.
Впрочем, в последние годы в Китае кто только не разрабатывает фотолитографы, осваивая многомиллиардные вливания из государственных Больших фондов. Так что вполне возможно, что прямо сейчас где-нибудь в Шанхае или Шэньчжене, какой-нибудь малоизвестный в широких кругах китайский разработчик собирается удивить мир чем-нибудь новеньким.
Но вернёмся к нашим достижениям. Как красиво называлась эта ОКР (опытно-конструкторская работа): «Разработка, изготовление комплекта стендового оборудования, разработка и освоение в производстве установки и технологического процесса проекционного переноса изображений топологического рисунка ИС на пластину (Step&Repeat) в обеспечение производства ИС, ЭКБ с проектными нормами 350 нм». Конкурс был объявлен в рамках государственнойпрограммы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности».
Теперь можно смело сказать: и разработали, и изготовили, и освоили. Почти миллиард рублей государственных денег наряду с упорным трудом российских и белорусских электронщиков сделали своё дело. Кстати, машина была разработана ещё весной 2024 года. Всё это время она проходила испытания перед приёмкой госкомиссией. Но возникает закономерный вопрос: а кто будущие заказчики этой установки? Очевидно, что отбоя от желающих не будет, причём как в нашей стране, так и в странах зарубежья.
Ведь машины такого класса до сих пор являются «рабочими лошадками» в области производства микросхем для автопрома, энергетики и телекоммуникационного оборудования. Особенно с учётом того, что примерная стоимость новой машины, по заявлению генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва, составляет около 4,5 миллионов долларов. Что для машины такого класса выглядит достаточно привлекательно.
Разумеется, зеленоградский «Микрон», передовик российской полупроводниковой промышленности, в стороне от наших фотолитографов остаться не может в принципе. К тому же в сентябре прошлого года между ЗНТЦ и «Микроном» было заключено соглашение «O сотрудничестве в освоении технологий и производстве в России фотолитографического оборудования с нормами 350–90 нанометров». К чести лидера белорусской полупроводниковой промышленности, минского завода «Интеграл», минчане ещё в начале 2023 года договорились с ЗНТЦ об условиях предзаказа на оборудование для фотолитографии.
С дальним зарубежьем сотрудничество также налаживается: после подписания в этом году Зеленоградским НТЦ меморандума о сотрудничестве с иранским Штабом по развитию микротехнологий, зеленоградский центр должен стать интегратором контрактных производств для микроэлектроники, разработанной в Иране. Это, очевидно, увеличит спрос вовлечённых предприятий на российское производственное оборудование, в том числе на фотолитографы.
И потом, Иран — большая страна, с населением свыше 90 миллионов человек, дальнейшая индустриализация которой, очевидно, не за горами. Чем не перспективный рынок сбыта для нашего высокотехнологического оборудования?
Не будем к тому же забывать, что в том же 2021 году прошёл ещё один профильный тендер Минпромторга РФ. Победу на нём одержал всё тот же ЗНТЦ. Только задача на этом конкурсе была поставлена ещё более амбициозная: разработать к 2026 году отечественную установку для печати микросхем на кремниевых пластинах с уровнем топологии до 130 нм, с перспективой его последующей модернизации до топологического уровня 65нм. Раз смогли во-время сделать 350 нм фотолитограф, то очевидно сделаем и запланированные 130-90-65 нм машины. Все предпосылки для этого есть. И тогда перед нашей полупроводниковойпромышленностью откроются по-настоящему захватывающие перспективы.
❗ Для знатоков и любителей микроэлектроники, полупроводниковой промышленности и фотолитографии: заходите в премиум-раздел канала «Фотолитограф».