В конце прошлого года мировые средства массовой информации облетела новость о создании Китаем фотолитографа, способного «печатать» микрочипы по техпроцессу 28 нм. В качестве производителя этой машины называлась SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), ведущая китайская компания этого профиля. И даже назывался номер модели: SSA/800-10W. Надо сказать, что эта новость наделала много шума, так как 28 нм — это достаточно передовой техпроцесс, во всяком случае по китайским меркам. Эта технология, хоть и разработанная уже добрые двенадцать лет назад, позволяет производить очень широкий спектр микросхем, прежде всего для бытовой техники: стиральных машин, телевизоров, холодильников. Немало ноутбуков и даже смартфонов до сих пор используют такие микрочипы.
На сегодняшний день китайские производители 28 нм микросхем используют фотолитографы голландского гиганта ASML, который фактически является мировым монополистом в этом оборудовании: кроме него только японский производитель Nikon способен производить фотолитографы с таким разрешением, но погоды на мировом рынке японцы не делают. Так что создание собственного китайского фотолитографа ослабило бы технологическую зависимость Китая от Запада в вопросах микроэлектроники.
Следует отметить, что литографы настолько сложное оборудование, что их работа требует технической поддержки со стороны производителя буквально в режиме реального времени. И отказ со стороны голландцев в техобслуживании оборудования или обновлении его программного обеспечения мог бы поставить китайскую микроэлектронику в весьма сложное положение. К тому же Китай сосредоточил свои усилия на том, чтобы стать мировым лидером именно в производстве «зрелых» микрочипов, так как наиболее передовые фотолитографы EUV (экстремальный ультрафиолет), позволяющие производить чипы по ультрасовременным 7-5-4-3 нм технологиям, ASML ему никогда не поставляла.
Почему для Китая так важен собственный 28 нм литограф, особенно в условиях всевозрастающих санкций Запада в отношении китайской микроэлектроники, понятно. Вопрос в том, что после того как улеглась информационная волна, дальнейших сведений о судьбе пресловутого литографа попросту невозможно найти. СМИ разных стран в качестве источника такой информации ссылались на публикации друг друга. Во всяком случае мне не удалось найти ни одного официального заявления самого SMEE о таком достижении. На их сайте есть информация только о 90 нм литографе как о самом передовом оборудовании в их линейке.
В общем, ни фотографий использования этого оборудования в условиях реального производства, ни технических обзоров, ни хотя бы фирменной листовки с техническими характеристиками попросту не найти. Ещё один вопрос: а зачем перепрыгивать сразу с 90 нм на 28 нм? А как же принцип «от простого к сложному»? Почему бы не сделать для начала литографы на 65 и 40 нм? Они же значительно проще, чем 28 нм. А ведь именно микросхемы по техпроцессам 65 и 40 нм наиболее востребованы в автопроме и прежде всего в производстве электромобилей: силовые полупроводники, микросхемы управления двигателем, тяговой батареей и прочим электрооборудованием. Учитывая бурный рост и важность этой отрасли для Китая, резонно предположить, что именно по поводу таких фотолитографов китайцы должны были озаботиться прежде всего.
В общем, вопросов по 28 нм китайскому литографу больше чем ответов. Хотя понятно, что создание передовой фотолитографии в Китае — это всего лишь вопрос времени, учитывая насущную необходимость этой страны в таком оборудовании и просто гигантские средства, которые Китай выделяет на поддержку собственной микроэлектроники.
