Новое оборудование для самой современной фотолитографии, объединяющее в себе работу со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) и высокое значение числовой апертуры (High NA), крайне необходимы для производства процессоров с техпроцессом исчисляемым уже в ангстремах десятых долях нанометра, что позволит преодолеть технологический барьер в 1 нм и продолжить существование закона Мура. Исходя из всего этого налаживание поставок данного вида оборудования со стороны компании ASML уже в нынешнем году является критически значимым для всех ее клиентов.
Например, Intel еще в 2022 году говорила о желании одной из первых получить эти установки для своего предприятия в Огайо, строительство которого должно завершиться к концу следующего года, и благодаря этому наладить выпуск процессоров в 1,8 нм уже к 2025 году. Цена за новое поколение оборудование ASML будет в 2,5 раза превышать цену предыдущего поколения, стоимость одной такой установки будет равняться 340 млн долларов.
По словам генерального директора ASML Петера Венника, ничто не помешает корпорации отправить первые пилотные образцы данной продукции до конца 2023 года. Также он рассказал о том, что у некоторых поставщиков были проблемы, связанные с увеличением объёма производства всех нужных компонентов и качеством продукции, что в свою очередь вызвало небольшие задержки. Однако несмотря на все это первые экземпляры новейшего литографического оборудования должны быть отправлены клиентам уже к концу нынешнего года.
