Литографическая приставка для СЭМ Melytec EBL-30
Система генерации шаблонов Melytec EBL-30 представляет собой высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии, специально разработанное для интеграции со сканирующими электронными микроскопами бренда Melytec. Она сочетает в себе передовое аппаратное и программное обеспечение, позволяющее осуществлять полнофункциональное формирование шаблонов на нанометровом уровне. Система состоит из программного обеспечения для генерации шаблонов EBL-Layout и аппаратного генератора шаблонов на базе FPGA...