Исследовался метод получения покрытий с помощью системы спреевого нанесения. В ходе проведения тестов были оптимизированы параметры процессов, такие как скорость вращения столика, скорость перемещения форсунки, поток смеси, угол наклона форсунки и т. д. Получены равномерные покрытия под различные требования к однородности по толщине. В.Иванов Технология нанесения равномерного фоторезистивного покрытия с помощью спреевого распыления начала зарождаться в 2000-х годах. Оборудование, поддерживающее...