Строго говоря — нет. Но не всё так однозначно. В конце концов задачей обеих машин является формирование трафарета микросхемы из отверждённого фоторезиста на полупроводниковой пластине. И с этой задачей обе установки вполне справляются. Более того, последующие этапы полупроводникового производства в обоих случаях проходят одинаково и на том же самом оборудовании: машинах травления, осаждения, шлифовки и далее по списку. Разница лишь в том, что фотолитограф формирует трафарет микросхемы при помощи светового излучения, которое «переносит» рисунок фотошаблона на пластину. При этом узор рисунка под действием света отверждается (или, наоборот разжижается). В общем, нужное остаётся на пластине, ненужное — смывается. В наноимпринтном литографе рисунок формируется посредством штамповки рельефной формой и заполнения пустот формы (под воздействием капиллярных сил) предварительно нанесённым на пластину фоторезистом. Затем следует вспышка ультрафиолетового света. Поскольку форма прозрачная, то фото