В ответ на пост
Новая информация с выставки Микроэлектроника 2025 о рентгеновской литографии.
Представлен план развития направления литографии на длине волны 11.2нм.
Для информация, машины ASML с большой числовой апертурой (High‑NA EUV) работают на длине волны 13.5нм.
Технология ASML включает в себя оловянно-капельный метод получения излучения. Испускание излучения в нужном диапазоне происходит благодаря превращению в плазму капель олова лучом лазера. Это дает достаточно высокий КПД, к слову он составляет единицы процентов, но для таких источников это считается хорошо.
Но такой подход делает источник принципиально "грязным" из-за паров олова от которых надо создавать барьеры (пеликлы).
Этого недостатка во многом лишен источник на Ксеноне. Принцип в целом схож, только плазма создается из Xe путем ионизации его лазерным излучением.
Такой источник так же требует новые свойства для материала зеркал.
Для волны 11.2нм уже не подойдут Молибден-кремниевые от 13.5нм и требуются Рутений-Бериллиевые.
Ранее получение Ru-Be зеркал считалось проблематичным.
На данный момент зеркальная система на 11.2нм уже отработана и по отражательной способности не уступает, а по некоторым данным даже превосходит своего конкурента на 13.5нм.
Вся рентгеновская оптика построена только на отражательных системах, так как обычные пропускающие линзы тут будут иметь слишком низкую пропускающую способность.
Так же, стоит упомянуть, что первый серийный литограф ЗНТЦ на 350нм (длина волны 365нм) сейчас передается заказчику.
Следующая ступень 130нм (λ=248нм).
