Отечественный производитель «Технотех» (Йошкар-Ола), специализирующийся на выпуске печатных плат и радиоэлектроники, сообщил о получении патента на изобретение, которое назвали «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления».
Автором изобретения стал руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. Фоторезист — полимерный светочувствительный материал, неотъемлемый компонент процесса производства печатных плат, который наносится для получения окон доступа травильных и гальванических растворов в соответствии с фотошаблоном. После завершения технологического процесса оставшийся фоторезист удаляется с помощью разработанного раствора. По словам заместителя генерального директора по инновациям Владимира Потапенко, к поиску собственного решения для удаления фоторезиста подтолкнули санкции, заблокировавшие поставки спецхимии из Европы и США. Когда импортный состав закончился, применять уже известные альтернативы не предприятии не захотели: «Да, мы могли