Сложнейшие технологии, освоенные единицами предприятий во всем мире, все активнее покоряются российскому технологическому сектору. Настала очередь особых микросхем, которые, с одной стороны, станут аналогами импортного Intel, с другой — будут более адаптированы к локальным условиям производства. Мы уже рассказывали о первом русском литографическом сканере на 350 нм, который проходит испытания. Это уникальное не только для российской, но и мировой индустрии оборудование — лишь начало. Замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак уже говорил о совершенствовании технологии до 130 нм, а руководитель Национального центра физики и математики в Сарове Александр Сергеев смотрит еще дальше. «У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров», — считает академик. Тем временем АО «НИИ Молекулярной электроники» (НИИМЭ) готовится расширять горизонты в смежной отрасли. Институт заключил контракт с
Литограф есть, теперь НИИМЭ займётся разработкой российских аналогов микросхем Intel
29 июня 202429 июн 2024
25,3 тыс
3 мин