В России начались испытания первого отечественного литографа
Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак сообщил о создании и начале испытаний первого российского литографа — о необходимости его разработки Шпак упоминал еще в конце прошлого года. На данный момент оборудование такого уровня сложности собирают лишь несколько мировых компаний, включая нидерландскую ASML, Canon и Nikon.
Первый российский литограф способен выпускать чипы размером до 350 нм — это делает его пригодным для использования в автопроме, энергетике и телекоммуникациях. Для производства передовых 5- или 3-нм однокристальных систем, используемых в современных смартфонах, он пока не предназначен. «Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», — заявил Шпак на конференции ЦИПР в Нижнем Новгороде.
Василий Шпак также рассказал, что следующий этап развития включает выпуск литографа, способного создавать чипы размером 130 нанометров — он планируется на 2026 год. В дальнейших планах — разработка 90-нанометрового литографа и оборудования с поддержкой более тонких техпроцессов.
Как устроено отечественное полупроводниковое производство: