Япония умеет удивлять. Всемирно известная японская компания Canon объявила о начале производства и продажи оборудования для создания микроэлектроники уровня 5 нм (нанометров). Удивительным фактом является то, что оборудование на самом деле рассчитано на производство чипов уровня 14 нм, но с помощью уникальной технологии японцы смогли произвести на таком оборудовании чипы, аналогичные чипам, выполненным по технологиям 5 нм. Таким образом, компания Canon пытается догнать мирового лидера в виде нидерландской компании ASML. Информация пришла из новостного издания Bloomberg.
По сообщению Bloomberg, установкаCanon FPA-1200NZ2C нового поколения способна производить чипы, соответствующие уровню 5-нм и при этом она не использует технологии EUV литографии, которые задействованы в установках компании ASML.
Первоисточником информации стал официальный сайт Canon, на котором сегодня появилась новость о том что компания Canon анонсировала запуск производства установки FPA-1200NZ2C.
Фотолитография в глубоком ультрафиолете (Extreme ultraviolet lithography или EUVL) – это один из видов фотолитографии в наноэлектронике, который использует облучение кремниевой заготовки с помощью света экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13.5 нм, т.е. света почти рентгеновского излучения. В настоящее время EUV литография применяется для изготовления только самых передовых полупроводниковых устройств из-за большой дороговизны производственного процесса. По состоянию на 2023 год компания ASML является единственной компанией в мире, которая производит и продаёт системы EUV литографии для производства микросхем.
К удивлению многих читателей, японская технология производства микроэлектроники не использует литографию с облучением в EUV диапазоне и больше похожа на классические технологии печати струйными чернилами.
Является ли подобная технология выгодной и эффективной – покажет время, но уже сейчас стало известно о том, что Canon планирует продолжить улучшение установки печати для выхода на уровень, аналогичный двум нанометрам (2 нм) компании ASML.
