То, о чём я говорил ещё прошлым летом, видимо, скоро будет осуществляться на практике (если уже не осуществляется). В статье «Обострение с Тайванем и российские чипы. Кто от этого выиграет?» я выразил мысль о том, что разработку и строительство литографов для производства процессоров можно осуществлять совместно с Китайскими специалистами. Уже в конце прошлого года у меня вышла ещё одна статья «У России проблемы не с деньгами, а со специалистами!», в которой я высказал идею создания совместных предприятий для разработки литографов. Всё это напрашивалось само собой — у Китая с производством своих литографов те же самые проблемы. Они как раз бьются над созданием своего DUV-литографа на 28 нм. Причём, скорее всего, не все его компоненты будут чисто китайскими. Кроме того, Китай запатентовал описание своего EUV-литографа и его ключевых компонентов, включая источник излучения с длиной волны 13,5 нм, набор отражающих зеркал и т.п. То есть, и в этом направлении он работает. Мы тоже работаем