8 марта 2025 года спокойствие в СМИ нарушил китаец Yin Sun своим твитом в сети Х:
Разработанная в Китае отечественная EUV-машина, использующая технологию лазерно-индуцированной плазмы (LDP) — в отличие от подхода LPP, используемого ASML, — в настоящее время проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Пробное производство запланировано на третий квартал 2025 года, массовое производство — на 2026 год.
Интересное сообщение! И оно не первое на тему китайского EUV-литографа. Ещё в конце 2022 года у меня выходила статья «Huawei (материковый Китай) подала патент на фотолитограф со сверхжёстким ультрафиолетом!». Патент назывался «Зеркало, литографическое устройство и метод управления». И вот теперь, спустя 2 года, нам сообщают о том, что EUV-литограф создан!
Я стал смотреть, что же это за человек и что он вообще постил там ранее, чтобы понять, насколько можно доверять такому заявлению. Нейросеть Grok, подключенная к твиттеру, сообщила о нём такую сводку:
@NiSiv4 — яростный защитник технологических достижений Китая, таких как создание 5—нм чипов, несмотря на санкции, с острым взглядом на развенчание мифов западных СМИ (например, лжи о “геноциде” уйгуров) и умением раздувать наследие Мао как основу современного Китая. NiSiv4 страстно защищает интересы Китая, от статуса Тайваня до технологических прорывов в ЕС, используя острый язык и глобальное законодательство в области быстрого набора. Какой смысл в том, что у США такой большой ВВП, если они не могут справиться даже с простым лесным пожаром в жилом районе?
Доверие к этому человеку, прямо скажем, не увеличилось. Всегда опасаюсь «яростных защитников» чего-либо. Тогда я стал сам исследовать его комментарии, и наткнулся на довольно интересное процитированное им ранее сообщение некого Dr. Kim. В одном из своих постов:
Знаете ли вы, что многие китайские научно-исследовательские институты (SIOM, CIOMP, Харбин, Цинхуа, HKUST) в области оптики в настоящее время разрабатывают источники света в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне, используя различные технологии (LPP, LDP, SSMB)?
он ссылается на сообщение некого Dr. Kim (김서연), который, судя по подтверждённому профилю, является работником TSMC, а ранее работал в Samsung, IBM Research, Los Alamos, CERN, NASA:
Китай выходит из конкуренции с ASML. Продвижение к коммерциализации поколения лазерно-индуцированной плазмы разряда (LDP) EUV — это момент глубокого изучения литографии, которого я опасался.
LDP намного эффективнее плазмы, создаваемой лазером (LPP), которую использует ASML. LDP испаряет небольшое количество олова в виде облака между двумя электродами, а затем использует высокое напряжение для преобразования паров олова в плазму. Электроны сталкиваются с ионами олова, образуя EUV-излучение длиной волны 13,5 нм.
LPP требует использования высокоэнергетического лазера и сложной электроники управления в реальном времени на базе FPGA. Подход LDP проще, компактнее, экономичнее и эффективнее с точки зрения энергопотребления. Ниже приведено сравнение подходов к генерации LDP и LPP.
Прямо скажем, этот человек уже внушает доверие. Незадолго до всего этого он писал:
У меня сильное предчувствие, что ASML не сможет быстро адаптироваться к грядущим изменениям в литографии. Возможно, в литографии наступит момент DeepSeek, который будет ещё более разрушительным, чем оригинал.
и уже сейчас, после сообщения Yin Sun, он процитировал его, а также этот свой текст и резюмировал:
Всё кончено.
Я не думал, что это будет так скоро
Таким образом, у меня создаётся впечатление, что сообщение Yin Sun не фейк, а констатация реального факта.
Первоисточник информации
Надо заметить, что впервые изображение с интерферометром для настройки объектива EUV-литографии, сфотографированным через стекло, появилось на день раньше, ещё 7 марта. Его опубликовал некто Zephyr с подписью «Интерферометр выглядит хорошо», а также своим сообщением от того же числа у себя же в комментариях:
Слухи: машина EUV уже проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Пробное производство с использованием EUV в третьем квартале 2025 года. Массовое производство в 2026 году
Судя по фото, оно было соскринено из китайского Тик-тока (там он называется Доуинь), но я уж не стал копаться дальше, ибо установить Доуинь из России — это целый процесс с установками apk-файла из сторонних источников, чего я обычно стараюсь не делать :-)
Итак, автор первоначального сообщения (Zephyr) сам объявил, что это только слухи, но «яростный защитник» Yin Sun перепостил это уже как точный факт. С другой стороны, информация действительно выглядит относительно достоверной :-)
Кстати, в сети можно встретить ещё вот такую схему сравнения процессов получения EUV-излучения у ASML (LPP) и разрабатываемую в Китае (LDP):
А что в России?
К слову, в России где-то в районе 2022 года был предложен ещё один вариант источника излучения с ксеноновыми лазерами, о котором я рассказывал ранее. Вместо оловянного источника излучения с длиной волны 13,5 нм, применяемой в установках ASML, учёные ИПФ РАН предложили источник на основе газа ксенона 11,24 нм, в результате чего во-первых, при генерации излучения не возникает мешающих дальнейшей генерации излучения отходов, что является большой проблемой для источников излучения на основе олова, а во-вторых, за счёт уменьшения длины волны увеличивается разрешение оптической системы.
Недавно от ИФМ РАН поступила информация, что в настоящее время в Фонд перспективных исследований подан аванпроект по теме: «Обоснование технической возможности создания отечественного рентгеновского проекционного литографа», и что подписание договора ожидается в марте 2025 года. Так что от наших тоже ждём каких-то результатов, хотя уже опять с отставанием от Китая.
Выводы
Итак, что мы теперь знаем? А то, что пока мы испытываем свой MUV-литограф (а это даже не DUV) для техпроцесса 350 нм, в Китае уже проходят испытания EUV-литографа, а наш EUV ещё на стадии обоснования технической возможности его создания. Медленно, медленно, надо быстрее! Прототип был ещё в 2011-м году, но активность началась только в 2022-м году, когда прижали.
На сегодня всё. Ставьте нравлики, подписывайтесь на мой канал и делитесь своим мнением в комментариях. Удачи! :-)