Из-за санкций США против Китая, его компании в настоящее время не могут производить микропроцессоры по современным технологическим нормам. Насколько мне удалось узнать из открытых источников, материковый Китай в настоящее время имеет иностранное оборудование для производства процессоров по техпроцессу не тоньше 14 нм, а своё — для техпроцесса 28 нм, которое ещё не выпускается серийно.
Но в обозримом будущем проблема с современными технологическими нормами может быть решена. Huawei подала патент на технологию сверхжёсткой ультрафиолетовой (EUV) фотолитографии, которая позволит делать чипы по технологии 7 нм и тоньше. И хотя патент не означает, что готовая литография появится вот прям уже завтра, у Huawei достаточно ресурсов (как финансовых, так и интеллектуальных) для создания готового решения в горизонте нескольких лет.
Патент, поданный Huawei в Государственное ведомство интеллектуальной собственности в середине ноября, имеет номер 202110524685X «Зеркало, литографическое устройство и метод управления». Он описывает саму EUV-литографию и ее ключевые компоненты, включая источник света с длиной волны 13,5 нм и набор отражающих зеркал.
Запатентованный метод может решить проблему, заключающуюся в том, что когерентный свет не может быть равномерным из-за формирования фиксированной интерференционной картины, но он специальным образом оптимизирован конструкцией литографического устройства, тем самым достигая цели равномерного излучения.
Машины для глубокой ультрафиолетовой фотолитографии ранее разрабатывались различными компаниями, но только Нидерландская ASML добилась в этом успехов, хотя и у неё ушло на это более 10 лет плюс крупные финансовые вливания от партнеров, которым ASML сейчас поставляет такие машины — Intel, Samsung и TSMC.
К слову, китайская SMIC не смогла получить даже уже оплаченный литограф — требования США запретили ASML продавать Китаю системы сверхжёсткой ультрафиолетовой фотолитографии. Вот почему Китаю так остро нужно собственное устройство, и Huawei уже сделала большой шаг к его созданию.
Помимо Huawei, китайские институты на материковой части страны также предложили технологии, связанные с EUV-литографией. Например, Университет Цинхуа преодолел технические барьеры, связанные с источниками излучения, и освоил новые источники излучения, которые могут быть использованы в машинах EUV-литографии. Китайская академия наук также освоила технологию системы линз объектива.
С одной стороны, Huawei разрабатывает EUV-литографические машины, но также разрабатывает и технологию альтернативных литографических машин. Например, она предлагает технологию печати не на классических кремниевых пластинах, по сути монополизированных Соединенными Штатами, а на обычных фотоэлектрических пластинах.
В контексте этой новости меня интересует только одно — а пытались ли российские научные круги наладить научно-техническое взаимодействие с инженерами Huawei с целью объединить усилия, ведь и у нас есть наработки, которые могут быть полезны этой компании? Или такая попытка обречена на провал, и китайцы не намерены ни с кем делиться технологиями?
На сегодня всё. Ваши мнения жду в комментариях. Не забудьте поставить нравлик статье и подпишитесь на мой канал, если вы этого ещё не сделали :-) Удачи!