Сколько фотолитографических установок экстремального ультрафиолета (EUV) работает на современной полупроводниковой фабрике? Общий ответ: много. Причём работают они в круглосуточном режиме. И это при том, что одна такая машина стоит более 150 миллионов долларов. Ну а если мы рассматриваем самую современную EUV установку с высокой числовой апертурой, то сумма увеличивается до 380 миллионов.
Но хотя самих EUV машин на полупроводниковых фабриках работает немало, этого не скажешь о количестве предприятий, которые такие машины эксплуатируют. Это южнокорейский конгломерат Samsung Electronics, лидер мирового полупроводникового производства тайваньский TSMC, южнокорейский передовик в области компьтерной памяти SK Hynix и американский классик Intel. На этом недлинный список заканчивается. Он мог бы быть и побольше, если бы к чисто коммерческим аргументам в этой отрасли не примешивалась геополитика: многим предприятим, к примеру китайским, столь передовую технику не продают ни за какие деньги.
Более точный ответ по количеству устанавливаемых на фабриках литографических машин нам может дать возводимая сейчас в Японии полупроводниковая мегафабрика Rapidus, которая будет производить микрочипы по ультрасовременным 2 нанометровым техпроцессам. Речь идёт об установке десяти лиитографических машин на двух фабриках. Предположительно, пять из них будет установлено на первой фабрике (в декабре прошлого года уже прибыла перывая EUV установка голландской ASML Twinscan NXE:3800E), а остальные пять — на второй.
Первая фабрика должна выдать опытную продукцию уже в апреле этого года, а на серийное производство выйти к 2027 году. Когда будет построена вторая фабрика, пока точно не известно. Собственно неизвестны и модели фотолитографов, которыми будет укомплектовываться вторая фабрика. Что известно наверняка, так это то, что поставлять их будет голландский производитель ASML, потому что кроме него в мире литографические машины экстремального ультрафиолета попросту никто не производит.
Хотя не так давно японский производитель Canon отгрузил свои первые установки наноимпринтной фотолитографии) на одно из предприятий японского производителя компьютерной памяти Kioxia и в Техасский институт электроники.
EUV фотолитограф переносит рисунок интегральной схемы с фотошаблона на полупроводниковую пластину, покрытую светочувствительным материалом (фоторезистом), при помощи световых волн длиной 13,5 нанометров.
Наноимпринтный фотолитограф буквально штампует интегральные схемы на полупроводниковые пластины, покрытые фоторезистом.
При этом японский производитель заявляет о способности его установок производить микрочипы по достаточно передовым 5 нм техпроцессам, а в перспективе выйти и на пресловутые 2 нм. Но, конечно, пока сложно сказать, сколько времени может понадобиться, чтобы довести до ума эту технологию. Так что по всей видимости ещё много лет голландцы будут в гордом одиночестве пожинать плоды своих технологических достижений.