На рынке "отечественных" процессоров, скажу честно, сейчас происходит бум. Раз уж пошло, я поддерживаю тему. Да и в целом, Россия в промышленности и науке - преуспевает. Как не странно. Стоит упомянуть, систему ГЛОНАСС-К, в котором больше 90% базы сделано у нас; последние беспилотники; вакцина (я вообще, в шоке); научные ледоколы, суды; газовые турбины и ещё куча всего
Поэтому, мы можем выделить 2-3 минуты информации о процессорах. Нет, это не Intel. Это старый-добрый и пока малоизвестный "Эльбрус"
Скажите, а Вы тоже думаете, что России лучше не соперничать с Западом или Азией в электронике? Я так думал тоже, ведь сегодня, Эльбрус-8СВ (это в котором 8 ядер в процессоре, по 4 процессора в модуле, и у которого тактовая частота 1500 МГц). собирается в Тайване.
Собирают его в нормах предыдущего микропроцессора 28 нм. А вот Эльбрус-16С, уже начали производить в этом году с нормами 16 нм (16 ядер = 16 нм — легко запомнить))
Но у МЦСТ есть же свои перспективы и планы на ближайшее будущее. А в планах Эльбрус-32С (2025 год) с 7 или 8 нм. И как вы думаете, собирать тоже планируют на заводе в Тайвань
"Россия священная наша держава"
— Каким бы крутыми мы не были, но собирать микропроцессоры даже 28 нм - мы не можем. Минимальное, что можем позволить это 65 нм. И собираем такие "Эльбрусы" мы на заводе Микрон (Москва, Зеленоград)
Оборудование мы используем, пока, тоже не наше. Только "западное". Своё не сделали ещё 😁
Чтобы сделать микропроцессор с нормами 7 нм либо меньше. В мире есть только 1 компания, которая предоставит станки такой точности. ASML (Нидерланды)
Что здесь сложного? -А именно в создании излучения нужной длины волн, которые, в свою очередь, которые представляют топологию микропроцессора на подкладку. Весь процесс идет через "маску" и называется фотолитографией
До этого, воссоздавали излучение длиной волн 193 и 157 нм (через "глубокий" ультрафиолет) Но то разрешение, которое достигалось, было равно лишь 50-60 нм. Чего определенно мало. Тогда ребята из ASML просто взяли, и сделали 5 прямых операций фотолитографии и травления
Что позволило спокойно выйти на нормы в 10 нм. А чтобы экспонировать это всё дело, Нидерландцы берут жидкость и линзы, как среду, где они воздействуют на матрицу
Кстати, в 2020 году ASML начали применять чуть ли не "рентген". Почему? Да потому что, такое излучение нормой 13.5 нм - приближено к рентгеновскому. И называют его "экстремальный ультрафиолет"
А чтобы воздействовать на матрицу через экспонирование, внедряют уже НЕ линзы + жидкость. А зеркало + вакуум. Почему зеркало и вакуум? Потому что, это физика. Для такого излучения воздух + линзы = непрозрачны
У меня вопрос. А почему мы не можем..
... наладить производство микропроцессоров с современными нормами. И как можно было НЕ начать вкладывать в это деньги ещё 10 или хотя бы 5 лет назад?
Почему такая цифра, 5-10 лет? Отвечаю. Чтобы сделать свою разработку EUV-литографии (это то, что мы разбирали выше) необходимо вложить минимум 100 млрд. руб. и 10 лет чтобы воссоздать
Как вы думаете? Цифра в 100 миллиардов подъёмна для бизнеса? Нет? Хорошо. А для государства?)
Но нет же. "Для России же, не нужно освоить и внедрить производство своих микропроцессоров ниже норм в 22 нм. Поэтому, как следствие, станки (сканеры) по EUV-литографии нам НЕ нужны!"
Всё бы хорошо, но так 👆🏾 говорили в статьях у нас в России еще 10 лет назад. За это время, можно было уже профинансировать. Но мы же думаем, только о том, что будет сегодня. На перспективу мы не смотрим 😤
Окей, ты прав. Но ведь, никогда не поздно
Безусловно, начинать разработку EUV - не поздно. Если подумать, то технология только, только применяется. И 1000% будет актуальна с перспективой 15-20 лет
-- Хоть Россия вряд ли войдет в Топ-1 стран по производству таких микропроцессоров. Но мы, хотя бы можем стать страной, которая позволила себе это. А это уже "ни хухры мухры"
Плюс, у нас есть хорошие зададки. Ещё с 2012 года, мы производим "оптику" для фотолитографических станков с волнами в 13.5 нм. (хммм) Институт Физики Микроструктур в Н. Новгороде входит в Топ-5 позиций по рентгенооптике. В общем, "зеркала" для установок, у нас уже есть. А кстати, здесь же, собирали оптику для той самой Нидерландской ASML. (вот те, на!)
Источник излучения мы тоже можем! В Институте Спектроскопии подмосковного города Троицка. Но вот, парадокс. И здесь мы помогли сделать источник излучения, для всё той же ASML
Ребятаа! Мы уже сегодня, можем начать такое же производство с технологией EUV-литографии. Конечно, даже логично. Что такая технология, на грани возможностей. (поэтому и такое дорогое финансирование, и такая долгая разработка)
Ну короче, какая перспектива и когда производство?
Я упоминал этот институт выше. Ребята из Института физики микроструктур уже отрабатывают безматочную литографию. Что выйдет дешевле, чем вся технология производства EUV-литографии как у ASML. И тем более, это можно сделать в глобальном рынке. (а это не для России, пока)
Ну и главная фишка, без которой производство не наладить это технология МОЭМС. Если вкратце, то это "микрооптическая электрическая механическая система"
Она нужна для управления микрозеркалами. И вот как на руку, в России уже делают МОЭМС вместе с теми же Нидерландцами (а они хороши, в процессорах) но уже компанией "Маппер"
Кстати, размер таких "наших" зеркал 10 на 10 мкм, конечно, чего пока не дстаточно. Но в перспективе, если взять околорентгеновское излучение. То можно выйти на достижения тех же EUV-литографических станков с размерами зеркал в 4 мкм каждое
Друзья! Спасибо что достали до конца. Надеюсь, у нас у всех появилась надежда и понимание, что не всё плохо в Росиии с процессорами. Определенно, в это дело должны уже сегодня начать вкладывать
