«Российскому электронному машиностроению быть?». В рамках форума «АТОМЭКСПО-2022» научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ) Александр Сергеев рассказал о перспективах производства литографов в России. Такие станки – это базовое оборудование для создания суверенной микроэлектроники: лишь несколько компаний во всем мире способны производить такие устройства, а подавляющую долю рынка занимает голландская ASML. Сократить отставание в кратчайшие сроки за умеренные деньги не получится, поскольку Россия должна пройти по тому же пути, что и Запад. На старте будут производиться чипы даже не прошлого поколения, а образца 2007 года. Единственный шанс на быстрое сокращение разрыва – создать оборудование на альтернативных физических принципах, способное печатать современные микросхемы.
Традиционные литографы работают за счет рентгеновского излучения, образующегося при лазерном испарении олова, но в отечественном оборудовании планируется другой механизм. В основе проектируемого литографа задействуют три проекта. Вместо углеродного лазера будет использован особо мощный лазер большей мощности разработки ВНИИТФ. Рабочее тело заменит некая секретная разработка РФЯЦ-ВНИИЭФ. А для фокусировки излучения будут использоваться рентгеновские зеркала от Института прикладной физики РАН и ядерного центра в Сарове. Объединение этих проектов в рамках НЦФМ при участии «РОСАТОМА» позволит в течение 2-3 лет создать литографическую систему на длине волны 13,5 нм с мощностью, в разы превосходящей один из самых массовых современных литографов ASML TWINSCAN NXE:3400B. Это даст возможность выпускать чипы по техпроцессу до 5 нм. Для российской индустрии – это фантастика. Страна сможет создавать современные чипы для ПК и смартфонов с отставанием от флагманов всего в несколько лет, а не на десятилетия, как сейчас. Если у НЦФМ получится претворить обещанное в жизнь, то российское производство микроэлектроники выйдет на совершенно новый уровень.