Новая технология 2-нм чипов от Huawei: предусмотрели ошибки наших учёных
Блокировка доступа Huawei к технологии ультрафиолетовой (EUV) литографии в микроэлектронике, принадлежащей голландской ASML, вынудила китайский бренд прибегнуть к другой, но более старой технологии - глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии. В итоге, Huawei подала патентную заявку, описывающую технологию производства 2 нм чипов. Основоположником литографической печати чипов был СССР, который до момента своего распада вёл совместную работу с голландской ASML по усовершенствованию литографии в микроэлектронике...