Отказ Nikon от производства EUV фотолитографов: «загадка века».
Когда в мая 2009 года один из мировых лидеров в производстве фотолитографического оборудования для полупроводниковой промышленности, японский технологический гигант Nikon, заявил о «приостановке разработки некоторых из своих инструментов EUV фотолитографии», стало ясно, что японский производитель сошёл с дистанции, и теперь рынок этого ключевого оборудования (EUV = экстремальный ультрафиолет) для производства передовых микрочипов будет безраздельно принадлежать его единственному конкуренту, голландской компании ASML...