Главное США

Интересное Общество Политика СВО Экономика Спорт В мире Происшествия Шоу-бизнес Культура Технологии Авто Наука

11 сентября в 01:10

Intel опередила TSMC на несколько лет в литографии High-NA EUV

1 мин

Возвращаем к оригиналу....

Показать пересказ от нейросети?Посмотреть

Компания TSMC, лидер рынка полупроводников, планирует перейти на литографию High-NA EUV только с 2030 года.RUNET

TSMC планирует начать использование новых сканеров с фотомасками формата 6×6 дюймов в высокосерийном производстве уже в 2030 году.Регионы России

Intel уже располагает тремя машинами ASML для литографии High-NA EUV, каждая из которых стоит около 400-500 млн евро.RUNET

Согласно дорожной карте компании, которая прописана до 2029 года, в 2029 году TSMC намерена освоить нормы A12/A13.RUNET

Источники:

Регионы России

Все источники

5,67 млн интересуются

#base-scroll-wrapper { opacity: 1; clip-path: none; overflow: scroll; }#base-scroll-wrapper::-webkit-scrollbar { height: 6px; background: none; }#base-scroll-wrapper::-webkit-scrollbar-thumb { border-radius: 8px; background-color: var(--zenColorBgTertiary); }#base-scroll-container { overflow: unset; }#tabs-skeleton-container { display: none; }

#theme-content-annotation { opacity: 1; }#chips-items { opacity: 1; }#chips-container { overflow: scroll; }#chips-container::-webkit-scrollbar { height: 6px; background: none; }#chips-container::-webkit-scrollbar-thumb { border-radius: 8px; background-color: var(--zenColorBgTertiary); }#card-skeleton { display: none; }

#ad-feed { display: none; }#ad-tsar { display: none; }#ad-banger { display: none; }#ad-column_top { display: none; }#ad-column_bottom { display: none; }

#ad-feed { display: none; }#ad-tsar { display: none; }#ad-banger { display: none; }#ad-column_top { display: none; }#ad-column_bottom { display: none; }

Добавить в корзину Позвонить