«Технотех» сообщил о получении патента на раствор для удаления фоторезиста

Состав является критически важным элементом в процессе производства печатных плат.IT Channel News
От идеи до реализации прошло около двух недель.IT Channel News
Ключевыми преимуществами нового состава являются высокая скорость удаления фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), увеличенный срок службы и ряд других улучшенных технологических показателей.IT Channel News
В планах у Центра — производить ещё более 20 технологических растворов для нужд предприятия и рынка России.Pro Город Йошкар-Ола
Эта новость в СМИ