Японская компания Rapidus строит в городе Титосэ, Хоккайдо, завод по производству полупроводников. Цель — массовый выпуск 2-нм чипов к 2027 году. Ключевую роль в этом проекте играет оборудование для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), стоимость которого составляет десятки миллиардов йен. Rapidus заказала EUV-сканер у нидерландской компании ASML. Он прибудет в аэропорт на острове Хоккайдо в середине декабря. Для транспортировки этого крупногабаритного оборудования планируется использовать несколько грузовых самолетов. EUV-машина впервые ввозится в Японию, что станет важным этапом развития отечественного полупроводникового производства. Инженеры ASML, направленные в Японию, соберут и настроят оборудование, что позволит Rapidus начать опытное производство 2-нм чипов уже в апреле следующего года. ASML также планирует открыть рядом сервисный центр для бесперебойной эксплуатации их сканеров. Всего на объекте планируется разместить более 200 единиц оборудования, включая EUV-машины. Если проект будет успешно реализован, компания построит вторую фабрику, ориентированную на изготовление 1,4-нм чипов. Rapidus ведет переговоры с 40 компаниями о поставках 2-нм чипов. Ранее генеральный директор NVIDIA Дженсен Хуанг намекнул на возможное сотрудничество с компанией Rapidus в области производства чипов для искусственного интеллекта. Хуанг выразил оптимизм относительно потенциала Японии в производстве полупроводников.Хайтек+