Вакуумная система в EUV фотолитографе является одной из ключевых. Ведь 13,5 нм свет экстремального ультрафиолета на протяжении всего своего пути от оловянной плазмы до полупроводниковой пластины существует исключительно в условиях глубокого вакуума...