Китайский стартап Yuanjiwei объявил о запуске первой в мире пилотной производственной линии по выпуску микросхем на основе двумерных (2D) полупроводниковых материалов на 200-миллиметровых кремниевых пластинах. В Пекине рассматривают эту технологию как один из возможных путей создания 5-нм чипов без использования EUV-литографии, что особенно важно в условиях ограниченного доступа к передовому западному оборудованию. По заявлениям компании, новая линия поддерживает полный технологический цикл — от получения двумерных материалов до изготовления и интеграции готовых микросхем...