В России к концу 2030 года должен появиться опытный образец кластерной линии фотолитографии — комплекса оборудования для изготовления интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм. Его разработка позволит повысить скорость обработки пластин, улучшить чистоту производственного процесса и снизить уровень брака. Финансирование и масштаб проекта Как выяснил CNews, Минпромторг выделил 2,8 млрд рублей на создание линии. Соответствующий тендер был опубликован на портале госзакупок в конце ноября 2025 года...