Технология НЭМС Технологии изготовления НЭМС-устройств включает в себя два подхода. Первый подход называют сверху-вниз (top-down) и он предполагает процессы изготовления схожие с поверхностной микрообработкой при изготовлении МЭМС устройств с той лишь разницей, что разрешение литографических систем лежит в нанометровом диапазоне (литографические методы будут рассмотрены ниже). Второй же подход включает в себя использование наноструктур, полученных с помощью ряда методик, при которых не используются традиционные литографические процедуры...