Изображение, сформированное идеальной линзой объектива без аберраций в промежуточной плоскости изображения микроскопа, представляет собой дифракционную картину, создаваемую сферическими волнами, выходящими из задней апертуры и сходящимися в точке фокусировки. В этом руководстве исследуется влияние числовой апертуры объектива на разрешение концентрических ярких колец, присутствующих в дифракционной картине, обычно известных как диски Эйри. Узор Эйри, сформированный в промежуточной плоскости изображения...

TSMC, ведущий мировой производитель полупроводников, готовится к установке своей первой High-NA EUV литографической системы, но, несмотря на лидерство в применении EUV технологий, компания отстает от Intel в использовании High-NA EUV систем. В то время как Intel уже использует оборудование ASML для исследований и разработок, TSMC только начинает установку. В этой статье мы рассмотрим, что это означает для компании и индустрии в целом. Согласно отчетам DigiTimes и United Daily News, TSMC начнет установку...