В Нижнем Новгороде разработали литограф, источник излучения которого в несколько раз компактнее и чище в работе, чем у мировых аналогов. Промышленное производство устройства запланировано на 2030 год. Использование отечественного литографа в микроэлектронике позволит не только печатать 7-нм микрочипы, но и сделать их производство менее дорогим. В основе процесса литографической печати, разработанной нашими специалистами, лежит принцип ультрафиолетового излучения, но с длинной волны всего 11,2 нм, вместо 13,5 нм у голландской ASML - главного поставщика TSMC...