Современная микроэлектроника стоит на пороге фундаментального барьера. Технология литографии с длиной волны 13,5 нм, используемая сегодня для производства чипов по нормам 5, 4 и 3 нм, приближается к пределу своих возможностей. К 2030 году отрасль упрется в физический предел: классические оптические системы с этой длиной волны уже не смогут обеспечить стабильное воспроизведение топологии с шагом менее 8-10 нм. Однако выход есть — и он лежит в плоскости перехода к так называемой «жесткой» или «дальней» ультрафиолетовой области (Beyond EUV)...