Плазмонные металинзы для нанофабрикации
Оптическая литография является основным инструментом для изготовления микро / наноструктур в микроэлектронных и оптоэлектронных приложениях, что привело к взрывному росту полупроводниковой промышленности. За последние несколько десятилетий разрешение оптической литографии сократилось с μ1 мкм до ∼38 нм при однократной экспозиции, что сопровождалось уменьшением длины волны света с 436 до 193 нм. Cовременные системы литографии, в основном, построены на потребностях полупроводниковой промышленности и могут не подходить для постоянно меняющихся исследований и разработок в области наноразмеров...