1241 подписчик
Компания Canon бросает вызов господству ASML в производстве микросхем с помощью новой системы наноимпринт-литографии.
Японская компания Canon применяет свой опыт в оптических и изображенческих технологиях для разработки оборудования для производства микросхем. Они представили новое оборудование FPA-1200NZ2C, которое использует технологию наногравировки для создания микросхем с минимальной шириной линии 14 нм. Это решение предлагает аналогичные возможности, но с меньшим энергопотреблением по сравнению с традиционными системами фотолитографии. Это устройство также оснащено инновационной технологией контроля окружающей среды, что помогает минимизировать загрязнение и снижает энергопотребление, сокращая выбросы CO2. Canon предвидит дальнейшее усовершенствование этой технологии и достижение минимальной ширины линии в 10 нм. Это оборудование может использоваться для производства сложных полупроводниковых схем и микроструктур для различных устройств.
Около минуты
13 октября 2023