Главное зеркало главного станка полупроводниковой фабрики. Оптическая система фотолитографа экстремального ультрафиолета — катоптрическая, т. е. построенная на основе зеркал. Дело в том, что столь коротковолновое излучение, как 13,5 нанометровое, используемое в машинах голландского монополиста ASML, поглощается практически всем, в том числе стеклом и воздухом. Отсюда и зеркала вместо линз, и вакуум. Разумеется, обычные зеркала также такой свет вмиг поглотят, но многослойные кремний-молибденовые конструкции с отражением такого света более-менее справляются. Тончайший слой кремния практически беспрепятственно пропускает EUV свет, а слой молибдена такой свет отражает (всего около 1%). Но из-за того, что чередующихся слоёв около сотни, в результате интерференции всего отражается около 70% падающего света. Чтобы собрать сгенерированный источником излучения свет, осветить им фотошаблон, а затем сфокусировать отражённый от фотошаблона свет на полупроводниковую пластину (в масштабе 1:4), зерка
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум