Определиться нужно ещё вчера. Мечта об укрощении света экстремального ультрафиолета (EUV) в нашей стране столь же прекрасная, сколь и давняя. Когда японский инженер Хиро Киносита в конце 80-х годов создал первые изображения при помощи EUV фотолитографии, сделал он это, основываясь на расчётах в области многослойных зеркал, выполненных в Советском Союзе. Мечты о машине, способной «печатать» сверхпроизводительные микросхемы, в нашей стране никогда не были беспочвенными. Напротив, четверть века назад казалось, что до практического воплощения этих технологий нам рукой подать. Ведь на тот момент мы в этой области были самыми настоящими передовиками. Недаром инженеры нидерландской ASML, нынешние мировые монополисты в области EUV фотолитографов, когда в начале 2000-х зашли в тупик, обратились за помощью к российским специализированным институтам: Спектроскопии и Физики микроструктур. Наши специалисты в короткие сроки предложили голландцам прорывные для того времени решения: источник излучения
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум