Добавить в корзинуПозвонить
Найти в Дзене

Шаг за пределы EUV: как российская газовая мишень для 6,7 нм открывает путь к литографии 1–3 нанометра

Гонка за миниатюризацией полупроводников подошла к жесткому физическому барьеру. Современная EUV-литография, монополизированная нидерландской ASML, базируется на длине волны 13,5 нанометра. Выжать из этого стандарта техпроцессы менее 3 нм становится невероятно дорого и технически сложно из-за дифракционных ограничений. Чтобы двигаться дальше, индустрии нужен качественный скачок в рентгеновский диапазон. Именно такой фундаментальный шаг описан в свежем номере авторитетного журнала «Успехи прикладной физики» (том 14, № 1, 2026 год). Исследовательская группа, объединяющая физиков из Центра Келдыша, ТРИНИТИ и Института спектроскопии РАН, представила технологию генерации излучения на длине волны 6,7 нм. Эта разработка закладывает базис для создания отечественного литографического оборудования топологического уровня 1–3 нанометра. Чтобы понять значимость российской разработки, необходимо взглянуть на главную «головную боль» современных литографов ASML. Источником 13,5-нм излучения в них служ
Оглавление

Гонка за миниатюризацией полупроводников подошла к жесткому физическому барьеру. Современная EUV-литография, монополизированная нидерландской ASML, базируется на длине волны 13,5 нанометра. Выжать из этого стандарта техпроцессы менее 3 нм становится невероятно дорого и технически сложно из-за дифракционных ограничений. Чтобы двигаться дальше, индустрии нужен качественный скачок в рентгеновский диапазон.

Именно такой фундаментальный шаг описан в свежем номере авторитетного журнала «Успехи прикладной физики» (том 14, № 1, 2026 год). Исследовательская группа, объединяющая физиков из Центра Келдыша, ТРИНИТИ и Института спектроскопии РАН, представила технологию генерации излучения на длине волны 6,7 нм. Эта разработка закладывает базис для создания отечественного литографического оборудования топологического уровня 1–3 нанометра.

Проблема капельной мишени: почему буксует классический EUV

Чтобы понять значимость российской разработки, необходимо взглянуть на главную «головную боль» современных литографов ASML. Источником 13,5-нм излучения в них служит оловянная плазма. Лазер стреляет по микроскопическим каплям жидкого олова. Проблема в том, что металл испаряется не полностью: образуется мелкодисперсный мусор. Микронные осколки олова разлетаются по вакуумной камере, оседая на сложнейшей многослойной оптике и разрушая вакуумные насосы.

Для борьбы с деградацией зеркал применяются громоздкие системы охлаждения и сложнейшая магнитная защита, что превращает EUV-литограф в установку размером с автобус и стоимостью в сотни миллионов долларов.

Решение от Центра Келдыша: чистое облако вместо грязных капель

Российские физики предложили принципиально иной подход к источнику излучения. Во-первых, для генерации более короткой и «жесткой» волны (6,7 нм) вместо олова используются пары тугоплавких редкоземельных металлов — гадолиния и тербия. Исследования доказали, что именно эти элементы дают максимальный коэффициент преобразования лазерной энергии в рентгеновское излучение нужного спектра.

Во-вторых, и это главное ноу-хау Центра Келдыша, ученые разработали концепцию газовой мишени. В зону облучения лазером подается не твердое вещество и не капли, а уже готовый горячий газ из гадолиния. Лазер бьет по плотному газовому «облаку». Нет твердых остатков — нет мусора. Это кардинально решает проблему загрязнения рентгеновских зеркал и обеспечивает чистоту процесса.

Экстремальная инженерия: как укротить 3000 °C

Переход на газ звучит изящно в теории, но сталкивается с колоссальной проблемой на практике. Температура плавления гадолиния превышает 1500 °C, а чтобы перевести его в газообразное состояние с необходимым для литографа давлением, рабочую зону нужно разогреть почти до 3000 °C. При такой температуре плавится и разрушается подавляющее большинство известных конструкционных материалов.

Специалисты Центра Келдыша предложили непростую инженерную схему:

  1. Сверхтугоплавкий тигель: резервуар для гадолиния планируется изготавливать из экзотического сплава вольфрама и рения (температура плавления около 3600 К);
  2. Электронно-лучевой нагрев: вместо сложных лазеров для разогрева тигля используется генератор электронного пучка. В отличие от многих систем, он способен стабильно работать не в абсолютном вакууме, а в среде буферного газа (гелия или аргона), что критически важно для архитектуры литографа.

Согласно расчетам, для поддержания нужной температуры потребуется мощность всего около 1,2 кВт — это абсолютно реалистичная цифра для современных электронных генераторов. А применение теплоотражающих экранов с серебряным покрытием сведет тепловые потери к минимуму.

Оптика нового поколения и перспективы технологии

Переход на длину волны 6,7 нм требует новой оптической системы. К счастью, база для этого уже есть: последние достижения в оптике позволили создать многослойные рентгеновские зеркала на основе лантана и бора. Их теоретический коэффициент отражения на этой длине волны достигает 80%.

Безусловно, от научной статьи до серийной промышленной машины предстоит пройти длинный путь. Работа с температурами около 3000 °C требует высочайшей культуры производства и материаловедения. Сами авторы исследования отмечают, что следующим этапом станет сборка лабораторного макета установки. На нем технология удержания и испарения будет отрабатываться с использованием более дешевого молибденового тигля, и лишь затем инженеры перейдут к дорогостоящему вольфрам-рениевому сплаву.

Однако уникальность ситуации заключается в том, что зарубежных аналогов подобной компактной системы генерации газовой гадолиниевой мишени в открытой научной печати пока не зафиксировано. Если Центр Келдыша и ТРИНИТИ успешно реализуют «в железе» описанную архитектуру, российская микроэлектроника получит не просто аналог западных машин, а технологию следующего поколения. Это реальный шанс перепрыгнуть через ступень развития и создать базис для независимого производства чипов топологического уровня 1–3 нанометра.