Почему иммерсионная вода не разрушает фоторезист? Иммерсионные фотолитографы безо всякого преувеличения играют ключевую роль в современной полупроводниковой промышленности. Без них могут обходиться разве что фабрики, выпускающие микросхемы по очень зрелым техпроцессам: 65 нм и «толще». Всё что меньше — непременно требует самого активного использования иммерсионных машин. Причём речь идёт не только о чипах, производимых, скажем, по 28 или 16 нм техпроцессам. Большинство слоёв 3-х и 2-х нанометровые чипов напечатано именно на иммерсионных фотолитографах глубокого ультрафиолета (использующих 193 нм источник излучения, построенный на эксимерном ладере ArF = фторид аргона). Ведь на ультрапередовых сканерах экстремального ультрафиолета (EUV) по техпроцессам в единицы нанометров печатается только несколько самых критичных слоёв всего микрочипа. За большинство других слоёв и отвечают иммерсионные машины. Как вообще появились иммерсионные фотолитографы: машины, в которых для улучшения разрешен
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум