Система генерации шаблонов Melytec EBL-30 представляет собой высокоточное решение для прямой электронно-лучевой литографии, специально разработанное для интеграции со сканирующими электронными микроскопами бренда Melytec. Она сочетает в себе передовое аппаратное и программное обеспечение, позволяющее осуществлять полнофункциональное формирование шаблонов на нанометровом уровне. Система состоит из программного обеспечения для генерации шаблонов EBL-Layout и аппаратного генератора шаблонов на базе FPGA. Работая в тесной координации, они образуют полный замкнутый цикл от проектирования шаблона до экспонирования.
С точки зрения производительности, система Melytec EBL-30 обеспечивает сверхвысокую скорость сканирования до 50 МГц с минимальным шагом времени задержки всего 1 нс. Это позволяет точно экспонировать как простые геометрические структуры, так и сложные, произвольные шаблоны. Сопутствующее программное обеспечение EBL-Layout имеет интуитивно понятный пользовательский интерфейс и продуманную логику рабочего процесса, что позволяет новым пользователям быстро начать работу. Оно также предлагает функции пользовательского формирования структур на основе оптической регистрации изображений, позволяя пользователям гибко планировать компоновку в соответствии с реальными образцами, значительно повышая как эффективность проектирования, так и точность экспозиции.
Подробнее об электронных микроскопах Melytec и дополнительном оборудовании к ним на: https://melytec-testing.ru/catalog/elektronnye-mikroskopy/
#мелитэк #мелитэктестинг #Электронные_микроскопы