Попалось сообщение от 2008 года лидера мировой фотолитографии, нидерландской ASML, об отгрузке 1000-й фотолитографической системы KrF. Речь шла о фотолитографах, использующих источники излучения, построенные на фторид-криптоновых эксимерных (газовых) лазерах, генерирующих свет с длной волны 248 нанометров. Эти машины пришли на смену предыдущей линейке техники, так называемых i-line литографов, работающих на ультрафиолетовом свете с длиной волны 365 нм и использующих для его генерации ртутные лампы.
Для нас это сообщение интересно тем, что к ноябрю текущего года ожидается появление первого российского KrF фотолитографа (степпера, работающего на волне длиной 248 нм по техпроцессу 130 нм). Эта машина также станет развитием предыдущей модели, степпера, работающего на волне 365 нм и предназначенного для производства микросхем по 350 нм технологии. Серийное производство 350 нм машин уже началось, а в следующем году должно быть развёрнуто серийное производство 130 нм техники силами Зеленоградского нанотехнологического центра (в сотрудничестве с минским «Планаром»). Эти же предприятия произвели и 350 нм фотолитограф.
248 нм свет — это уже глубокий ультрафиолет. Отсюда и название соответствующих фотолитографов: DUV = deep ultraviolet. Ну а i-line машины, в том числе наш степпер «Прогресс СТП-350», работают с 365 нм светом, то есть просто с ультрафиолетом, без «глубины».
Ультрафиолет: 320-400 нм
Глубокий ультрафиолет: 120-320 нм
Экстремальный ультрафиолет: 10-120 нм
Эксимерный лазер для нашей установки будет поставлять московский производитель «Оптосистемы». Основным поставщиком эксимерных лазеров для голландского передовика в те годы являлся американский производитель лазерной техники Cymer. Впрочем, таковым он остался и в наши дни, правда в 2013 году был куплен ASML. В общем, параллели между нашими и голландскими машинами напрашиваются, правда с разницей в 35 лет. Но прямо скажем, что в 90-х годах нам было не до фотолитографов. К тому же на территории РСФСР такие машины вообще не производились.
Конечно, тысячу таких фотолитографов голландцы «наштамповали» не вдруг: первый KrF степпер PAS 5000/70 был отгружен в 1991 году. Так что ASML для своей первой тысячи понадобилось 17 лет. В общем-то не так уж и много времени для столь внушительного количества машин. Однако ASML была не первой, кто справился с KrF степперами. Её завзятый конкурент Nikon выпустил свою первую машину NSR-1505EX тремя годами раньше, в 1988 году. Но времена, когда японцы играли первую скрипку на мировом рынке фотолитографии, остались в прошлом веке.
Впрочем, несмотря на лидерство ASML, KrF фотолитографы продолжают выпускать все ведущие мировые производители: ASML, Nikon, Canon и китайский SMEE. Со следующего года в этот коллектив вольёмся и мы. Хорошая возможность побороться за место под полупроводниковым солнцем.
Статью про разработку российского EUV фотолитографа на основе ксенона можно прочитать в премиум-разделе канала «Фотолитограф»: