Поединок между российским ИФМ и японской Rigaku. Оптическая система — один из ключевых модулей фотолитографа экстремального ультрафиолета (EUV). Примечательно, что такие системы являются катоптрическими, то есть состоящими из зеркал. Ведь свет экстремального ультрафиолета (длина волны 13,5 нм) невозможно сфокусировать на полупроводниковой пластине посредством диоптрического объектива (линзы) или катадиоптрического (линзы + зеркала) из-за того, что столь короткие волны полностью поглощаются стеклом. Зеркала здесь используются не обычные, как в наших ванных комнатах, а многослойные, причём изготовленные с атомарной точностью. С их помощью и получается перенаправить часть светового EUV излучения (отражённого от фотошаблона с рисунком интегральной схемы) на полупроводниковую пластину. Наиболее известный производитель таких зеркал — немецкий оптический гигант Carl Zeiss. Именно зеркала его производства установлены в фотолитографических EUV машинах нидерландской ASML. Поскольку ASML – единст
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум