Исследователи Южного федерального университета и НИУ ВШЭ (Санкт-Петербург) выяснили, как микрорельеф подложки влияет на оптические свойства квантовых точек при нанесении защитного слоя. Это позволяет точнее настраивать параметры структур для квантовых компьютеров и защищённых линий связи. Работа опубликована в Applied Surface Science. Это наноразмерные структуры, которые излучают и поглощают свет строго определённой длины волны — как атомы. Но в отличие от атомов, их параметрами можно управлять, меняя размер и состав. Они применяются в светодиодах, лазерах и в источниках одиночных фотонов для квантовой связи и вычислений. Учёные сравнили три типа образцов: Ключевой параметр — скорость нанесения защитного слоя. И она по-разному влияет на плоской и рельефной поверхностях. «На плоской поверхности быстрое наращивание “замораживает” атомы на месте. А в углублениях тот же прием не даёт атомам подтянуться к точке с соседних участков, и она уменьшается», — объясняет Никита Шандыба (ЮФУ). На ре