Инжиниринговая Компания «2К»: В то время как мировая полупроводниковая индустрия борется за выход на топологические нормы 2–3 нм и осваивает технологии High-NA EUV, Россия делает осознанный шаг в сторону обеспечения собственного технологического суверенитета в критически важной сфере микроэлектроники. В конце марта 2026 года стало известно о старте нового этапа государственной программы по созданию отечественных литографических машин. Согласно заявлению заместителя министра промышленности и торговли РФ, в текущем году начнется разработка первого российского литографа, способного работать с технологическими нормами 90 нанометров.
Это известие не является спонтанным. Оно стало логичным продолжением системной работы, начатой в 2022 году, когда отрасль взяла курс на реальное, а не декларативное импортозамещение в сегменте оборудования для фотолитографии — самом сложном и высокомонополизированном звене производственной цепочки.
От 350 до 90: эволюция отечественной литографии
Российский союз инженеров: Программа создания линейки литографических машин строится по принципу постепенного наращивания сложности. На данный момент российская промышленность уже обладает серийно готовым образцом литографа для 350-нм технологического процесса. Это базовое оборудование, которое позволяет закрыть потребности в производстве микросхем для «взрослой» электроники, где ключевыми требованиями являются надежность и устойчивость к внешним воздействиям, а не рекордная плотность транзисторов.
Параллельно с этим в настоящее время завершаются опытно-конструкторские работы над машиной для 130-нм топологии. Как только эти работы будут окончательно завершены, российские производители получат возможность выпускать более сложные микросхемы, используя полностью отечественный парк оборудования.
«В течение 2–3 лет у нас будут свои 90 нм», — отметил замминистра, обозначив временной горизонт для третьей модели. Старт разработки в 2026 году означает, что промышленная эксплуатация таких машин может начаться в конце десятилетия, что позволит замкнуть цепочку создания критической элементной базы для широкого спектра гражданской и промышленной электроники.
Почему 90 нм — это не «вчерашний день»?
На фоне ажиотажа вокруг субнанометровых технологий у неискушенного наблюдателя может сложиться впечатление, что техпроцесс 90 нм является устаревшим. Однако с точки зрения промышленной экономики и функциональной надежности это не так.
Технология 90 нм занимает уникальную нишу «золотой середины» между дорогими передовыми процессами и грубой силой старых производственных линий. В 2026 году и в обозримом будущем микросхемы, произведенные по этой топологии, остаются основой для огромного сегмента рынка, где не требуется экстремальная производительность, но критически важны низкая стоимость, энергоэффективность и устойчивость к радиации и перепадам температур.
Разработка собственного 90-нм литографа позволит России полностью локализовать производство следующего спектра компонентов:
1. Интернет вещей (IoT) и промышленная автоматика: Датчики, контроллеры сбора данных и коммуникационные чипы не требуют 5-нм транзисторов. Для них важна стабильность работы в условиях электромагнитных помех, которую обеспечивают более «толстые» технологические нормы.
2. Автоэлектроника (Automotive): Современный автомобиль содержит сотни микросхем. При этом требования к автомобильным компонентам (класс Automotive Grade) по надежности значительно выше, чем к потребительской электронике. Техпроцесс 90 нм идеально подходит для производства контроллеров управления питанием (PMIC), CAN-шины, интерфейсов и систем безопасности (ABS, ESP), где отказ чипа недопустим.
3. RFID-метки и системы идентификации: Для маркировки товаров, логистики и систем доступа требуются миллиарды простых, сверхдешевых чипов. Собственное оборудование для 90 нм позволит сделать эту нишу независимой от импортных поставок.
4. SIM-карты и электронные удостоверения: Производство идентификационных модулей, банковских карт и паспортов с электронным носителем требует гарантированного уровня безопасности и защиты от клонирования. Контроль над полным циклом производства на отечественном оборудовании исключает риски закладки аппаратных «закладок» на этапе литографии.
5. Силовая электроника и контроллеры питания: В эпоху перехода на электромобили и развития «зеленой» энергетики особое значение приобретают чипы управления питанием. Технология 90 нм оптимальна для создания мощных транзисторов и контроллеров, работающих с высокими напряжениями и токами.
Стратегический смысл: от станка к чипу
Ключевым фактором, который озвучил представитель Минпромторга, является акцент на «полностью своем оборудовании». До 2022 года даже при наличии у России инженерных компетенций в проектировании микросхем, производство критически зависело от поставок литографических машин из Нидерландов (ASML), Японии (Nikon, Canon) и Китая.
Создание собственной линейки: 350 нм → 130 нм → 90 нм — это не просто расширение технологических возможностей. Это формирование базы для будущего перехода к более тонким нормам (65 нм, 45 нм) уже на основе накопленного опыта и собственной научно-производственной школы. Литограф — это сложнейший комплекс механики, оптики, систем позиционирования и источников излучения. Освоив производство машин для 90 нм, отечественное машиностроение получит фундамент для создания следующего поколения оборудования с использованием методов глубинной ультрафиолетовой (DUV) литографии.
Выводы
Российский Клуб Финансовых Директоров: Решение о начале разработки российского 90-нм литографа в 2026 году подтверждает устойчивость выбранного курса на технологическую независимость. Несмотря на санкционное давление и разрыв глобальных цепочек поставок, российская микроэлектронная отрасль демонстрирует способность не просто поддерживать существующие мощности, но и планомерно наращивать технологический уровень.
Появление в ближайшие годы полностью отечественной линейки оборудования для производства чипов по топологии от 350 до 90 нм позволит обеспечить суверенитет страны в сегменте «критической инфраструктурной электроники». Это та база, на которой строятся умные сети, безопасный транспорт, системы «Умный город» и оборонная промышленность. В то время как гонка за нанометрами продолжается в лабораториях мира, Россия сосредоточилась на создании надежного, управляемого и безопасного фундамента для собственной цифровой экономики.
Коллеги, подпишетесь на канал Российского союза инженеров!
Инженеры Российской Федерации! Объединяйтесь!
127055, г. Москва, улица Бутырский вал, д.68/70, стр.2
- Офисный телефон: +7 (495) 626-30-40;
10 линий, единый телефон офиса, старший секретарь Анна - Мобильные телефоны: +7 (910) 002-82-30; +7 (985) 154-79-60;
+7 (985) 457-03-79
Читайте также наши материалы:
#литография #литограф #микросхемы #полупроводники #российскийклубфинансовыхдиректоров #semiconductor #chipmaking #российскийсоюзинженеров #hightech #engineering #EUV #DUV #microelectronics #futuretech #deeptech #ASML #innovation #science #инжиниринговаякомпания2к