Чьи компоненты будут использоваться в российских фотолитографах? Ведущее российское предприятие по разработке передового отечественного фотолитографа экстремального ультрафиолета, нижегородский ИФМ (Институт физики микроструктур) РАН, в прошлом году порадовал созданием экспериментального стенда для изучения характеристик «мощных лазерно-плазменных источников ЭУФ излучения». Проще говоря, это самый настоящий прототип источника EUV фотолитографа нового поколения, работающего на световой волне длиной 11,2 нанометра. Обратила на себя внимание система вакуумной откачки, реализованная на трёх китайских турбомолекулярных насосах KYKY CXF-320/3001. Значимость вакуумной системы в EUV фотолитографах трудно переоценить. Ведь столь коротковолновое излучение, как 11,2 нм, поглощается буквально всем, в том числе воздухом и стеклом. Именно поэтому вместо линз в такой технике используются многослойные зеркала, способные отражать EUV свет, а технологический процесс происходит в условиях вакуума. Источн
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум