Собственный путь требует оригинальных решений. Похоже, что в области создания фотолитографа экстремального ультрафиолета наши учёные собираются пойти оригинальным путём. Ведущий российский разработчик технологий EUV фотолитографии, нижегородский ИФМ РАН, активно продвигает идею разработки отечественной машины на ксеноновом источнике излучения. Следует отметить, что мировой монополист в области производства EUV фотолитографических машин, нидерландская ASML, в своё время сделал ставку на лазерно-плазменный источник излучения на основе олова, и в этом преуспел. В принципе, пойти своим путём и сделать то, что не удавалось раньше никому, звучит захватывающе. С другой стороны, и риски в таком подходе немалые: а вдруг не получится? В случае с «оловянной» машиной давно всё ясно: такая техника работает на всех передовых полупроводниковых предприятиях и со своими задачами вполне справляется. Достаточно взять в руки смартфон высокого класса или соответствующий ноутбук, и можно быть уверенными, ч
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум