17 декабря 2025 года в полупроводниковой отрасли появилась информация о том, что в Китае был создан рабочий прототип установки экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, ключевой технологии для производства самых передовых микросхем. Этот проект получил широкое обсуждение, поскольку до сих пор подобное оборудование оставалось прерогативой западных компаний, особенно нидерландской ASML, которая фактически монополизировала этот сегмент рынка.
Что произошло?
В китайском городе Шэньчжэнь завершена разработка и начаты испытания прототипа EUV-литографа — машины, способной генерировать экстремальный ультрафиолетовый свет, необходимый для записи сверхтонких структур на кремниевых пластинах. Эта технология лежит в основе изготовления высокопроизводительных процессоров и память для ИИ-систем.
Ключевой особенностью проекта стало участие бывших инженеров компании ASML — мирового лидера в производстве EUV-оборудования. Эти специалисты использовали методы обратного инжиниринга и опыт с оборудованием предыдущих поколений, чтобы собрать собственный аппарат в секретной лаборатории.
Технический статус прототипа
На текущем этапе разработанная установка работает и генерирует EUV-излучение, но пока не способна производить коммерческие чипы. Основная техническая сложность заключается в создании сверхточных оптических систем и механик, которые обеспечивают требуемое качество изображения на пластинах. Китайский прототип существенно крупнее и менее точен по сравнению с коммерческими EUV-машинами ASML, однако сам факт генерации EUV-света считается важным шагом.
Почему это важно для мира чипов
До недавнего времени доступ к EUV-литографии для Китая был ограничен из-за экспортных контролей западных стран. ASML под давлением США не могла продавать самые современные литографы в КНР, что серьёзно сдерживало возможность создания внутри страны передовых производственных линий.
Появление прототипа в Китае демонстрирует, что страна движется к технологической независимости в сфере полупроводников — даже вопреки ограничениям. Если дальнейшие разработки будут успешными, это может ускорить появление собственных фабрик, способных выпускать чипы по самым современным техпроцессам.
Участие специалистов и условия работы
Проект выполнялся с высокой степенью секретности. Специалисты, участвовавшие в разработке, работали под псевдонимами и в изолированных условиях, чтобы не привлекать внимание внешних наблюдателей. В команду входили как бывшие инженеры ASML, так и молодые выпускники профильных вузов.
Перспективы и вызовы
Несмотря на технологический прорыв, китайская установка пока далека от серийного производства чипов. Эксперты оценивают, что полноценное внедрение EUV-машины и выпуск коммерческих микросхем могут занять несколько лет, возможно до 2028–2030 годов, из-за необходимости совершенствования оптики, механического позиционирования и контроля качества.
Последствия для глобального рынка
Если Китай действительно сможет довести разработку до практического применения, это существенно изменит геополитическую расстановку сил в полупроводниковой отрасли. Ведущие игроки и правительства будут вынуждены пересматривать стратегии контроля над технологиями, цепочки поставок и собственные инвестиции в исследования и разработки.