Возвращение к ксенону как к главной движущей силе EUV фотолитографов. Итак, российский передовик в области EUV фотолитографии, нижегородский Институт физики микроструктур Российской академии наук (ИФМ РАН), взял курс на разработку фотолитографа, работающего на источнике излучения на основе ксеноновой плазмы (длина рабочей волны 11,2 нм). Нижегородцами уже составлена дорожная карта и выполнен соответствующий аванпроект. Эта новость без преувеличения вызвала самый живой интерес во всём мире. Ведь речь идёт о настоящем парадоксе: на заре EUV фотолитографии, в 90-х годах прошлого века, и в первые годы века нынешнего, именно на ксеноновый источник делали ставку все ведущие разработчики этой техники. Однако все попытки закончились сплошным разочарованием. Создать нормально работающую машину получилось только на оловянном лазерно-плазменном источнике (длина рабочей волны 13,5 нм). И вот сейчас, когда казалось бы о ксеноне все давно забыли, с подачи российских учёных эта тема возникла снова, п
Публикация доступна с подпиской
ПремиумПремиум